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基本參數

1、基片尺寸：6吋及以下；

2、樣品臺旋轉：自轉速度0～10轉/分；

3、基片升降:樣品到蒸發源距離可調，250-350mm；

4、操作方式：全自動方式操作；

5、系統總控：人機界面及控制程序；

6、電源：220VAC/50Hz，10KW；

7、機器重量：530kg；

8、機器尺寸：D810mm× W1220mm×H1830mm。

蒸發源、電源及鍍膜室

1、蒸發源（金屬舟狀）1套；

2、金屬蒸發電源：2套，3KW/套，數字顯示，其中一套為切換蒸發電源；

3、蒸發：水冷電極三組，配有交叉防污染板，自動擋板， 配兩套數顯蒸發電源功率為3KW；

4、真空室：圓柱形 304 不銹鋼腔體，正面開門結構；

5、極限真空：優于 6.67*10-5 Pa；

6、真空系統：采用 FF160/620 分子泵+6-8 升/S 旋片式機械泵組成；

7、真空測量：一低一高數顯復合真空計，一只電阻規測量前級預抽低真空，一只電離規測量真空室高真空，全金屬規管；

8、抽氣時間：大氣壓~3*10-4 Pa≤40min；

9、恢復工作真空時間：≤35分鐘左右（新設備充干氮氣）；

10、漏率：關機12小時真空度≤10Pa。

膜厚監測及保護系統

1、配備膜厚監測儀；

2、配備1支石英晶振水冷探頭；

3、設備保護系統：對泵、電極等缺水、過流過壓、斷路等異常情況進行報警并執行相應保護；具備完善的邏輯程序互鎖保護系統。